路透社专访ASML技术开发副总裁：芯片微缩还能持续10年

是说芯语 2023-02-02

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众所周知，荷兰商艾司摩尔(ASML) 过去以来所生产的光刻机一直是半导体制造当中的关键设备，尤其是其独家所生产的极紫外光光刻机(EUV) 更是半导体先进制程中不可或缺的设备，也是协助当前全球唯三，包括台积电、三星、英特尔能往先进制程发展的重要设备，也因此美国限制了中国大陆无法取得EUV，使得中国大陆半导体发展上始终落后于其他国家厂商。

而在半导体生态系中占据如此关键位置的ASML，其究竟是一家什么样的公司也引发外界的好奇。因此，《路透社》先前就专访了艾司摩尔的技术开发副总裁Tony Yen(严涛南)。而透过与Tony Yen 的对谈中也让大家了解，ASML 的经营、文化、以及产品的发展。

问：我很想听听您如何描述ASML EUV 及其功能。

答：基本上，我们制造的机器是一种曝光工具，可以生产每个人都需要的芯片。目前台积电、三星、和英特尔是我们向市场出售该尖端设备的三大客户。

问：ASML 要成为该领域的领导者，需要具备哪些要素？显然存在入门障碍，如前期成本和技术技能。但是，为什么其他人不能复制呢？

答：ASML 根植于荷兰文化，公司的决心，工程师的组成，管理层和我们的客户是成为领导者的因素。

荷兰的人口虽然只有1,700 万，但其公民很多都受过高等教育。ASML 拥有许多具备博士和硕士学位的员工，而且该公司非常的国际化，使得在公司的自助餐厅内可以听到各种语言的交谈，这些语言包括了中文、俄文、东欧文、西班牙文、意大利文、德语等。

而就因为公司的国际化特性，使得员工被公司的文化所吸引，这是非常重要的，这将使得公司注重结果，而且由技术来带动的发展容易被实现。另外，几位公司高阶领导人都拥有物理学博士学位或物理学家的身分，使得这些公司领导人在ASML 中扮演着关键重要角色。尤其，他们帮助ASML 来透过物理学的常识来发展特殊的设备机械，包括提供给先进芯片制造过程使用的EUV 光刻机，这是ASML 能成为该领域的领导者的关键之一。

问：ASML何时开始考虑发展EUV？

答：这大概开始于2000 年左右，公司并决定为大量开发与生产这些光刻机。当时，日本的厂商没有这样做，因为他们看到EUV 系统将会非常复杂，而且不见得确信EUV 设备能100% 的起作用。

而ASML 有一个德国合作伙伴-蔡司(ZEISS)，该公司以生产光学系统为主，其历史可以追溯到1850 年。而ASML 与蔡司合作，蔡司专门为ASML 制造光学系统。也因为ASML 也为蔡司的许多开发提供资金，因此蔡司只能向ASML 出售与半导体相关的光学系统。另外，在与蔡司德发展过程中，ASML 还收购了总部位在美国圣地亚哥的Cymer，这是使EUV 发挥作用的另一个关键供应厂商。

问：ASML 一开始要如何努力地将产品推广到市场上，而且之后生产出能符合他们需求和规格的产品？

答：从早期开发阶段开始，这两者是相互的。因为客户采用ASML 早期开发的设备，可靠性不高，使得这些机器虽然有50% 的时间在停机的状态中。只是，这些设备却能够提升生产芯片过程中上所需的功能。因此，如果客户需要提升芯片的生产，或者用于生产更微小的芯片，就必须选择ASML 的机器，这就是一开始的方式。但是，在当时，这些机器绝不是生产的绝对必要设备。

第一台EUV 机器于2010 年送交三星，2011 年送交台积电，这些都是早期的机器。而ASML 经历了许多的研发，而且也让客户知道ASML 长期参与在客户开发产品的过程当中，让他们对于设备也能具备信心。而对于最先期的客户，ASML 将早期的开发工具放在客户端，并在物理上与客户共同开发该技术，在此互相合作的基础之下，开发出达到客户需求产品。

问：针对未来先进制程包括7 纳米、5 纳米、3 纳米的发展可以说明一下状况吗？并且说明一下这些先进制程技术的转移状态？

答：在当前大规模生产中最先进制程技术是5 纳米节点，这是由台积电和三星目前的技术。而英特尔在5 纳米制程节点方面落后，他们甚至没有在7 纳米制程节点上开始进行大规模生产。但这边必须要注意的是，因为英特尔具有更高层级的设计规则，因此英特尔的7 纳米节点就相当于台积电和三星的5 纳米节点产品。因此，在相关技术并非完全一模一样的情况下，这样的差别很难说哪一家的产品比较优异。

至于，问题的第二部分，当客户转向更高级的制造流程，一般所需要的时间大概是5 年。而在这个阶段中，ASML 就会与客户相互的发展目标，只是这边无法透漏细节。不过，首先需要对产品进行规划，然后获得董事会得许可后进入开发阶段这是一定的。而一旦产品开发成功进入量产阶段，在出口地点在不是受到管制的国家或地区情况下，预计2 年就会运交量产型的产品设备。